PVD技术的应用范围及优缺点
其应用范围是:
1)碳钢、合金钢、不锈钢及钛合金等金属材料;
2)金属材料的表面硬度至少需要在HV170以上。
其优点是:
与传统磁控溅射单色PVD技术相比,双色PVD工艺更为复杂,流程更为繁杂,生产难度高,但外观效果,两种颜色的表面硬度都在HV600以上。
传统磁控溅射单色PVD技术要在实现双色效果,采取的工艺措施是在整体PVD单色的基础上把需要实现另一种颜色的区域激光镭雕掉或者磨掉。磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法,由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点,因此获得了迅速的发展和广泛的应用.
1. 磁控溅射:
离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.
磁控溅射的基本原理:
磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场,处于正交电场区E和磁场B中的电子的运动方程,
以上信息由专业从事金属不锈钢镀钛服务的金常来于2024/5/5 9:43:21发布
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